Ioneplettering bruker gassutslipp under vakuumforhold for å ionisere gassen eller fordampet materiale. Under bombardement av gassioner eller fordampende materialeioner, blir det fordampede materialet eller dets reaktanter avsatt på arbeidsstykket. Dette inkluderer magnetronforstøvnings-ion-plettering, reaktiv ion-plettering, hul katode-utladning-ion-plettering (hul katode-fordampning) og multi-bue-ion-plettering (katode-bue-ion-plettering). Ionebelegg kombinerer glødeutladning og plasmateknologi med vakuumfordampning, noe som forbedrer beleggets ytelse betydelig og utvider applikasjonen. I tillegg til å dele fordelene med vakuumsputtering, tilbyr ionplating sterk filmvedheft, utmerkede diffraksjonsegenskaper og et bredt spekter av pletteringsmaterialer.
Følgelig har den opplevd en rivende utvikling både nasjonalt og internasjonalt de siste årene. Det grunnleggende prinsippet for ioneplettering er å ionisere metall- eller legeringsdamp ved å bruke gløde- eller lysbueutslipp fra en inert gass. Ioneplettering innebærer oppvarming, fordampning og avsetning av beleggmaterialet (som TiN og TiC).
Når de fordampede beleggmaterialatomene passerer gjennom glødesonen, blir en liten del ionisert og under påvirkning av det elektriske feltet flyr den mot arbeidsstykket og treffer overflaten med energier på flere tusen elektronvolt. De kan penetrere underlaget til en dybde på flere nanometer, noe som forbedrer beleggets vedheft betydelig. Unioniserte fordampede materialatomer avsettes direkte på arbeidsstykket for å danne en film. Sputtering av inerte gassioner og beleggmaterialioner på arbeidsstykkets overflate fjerner også forurensninger, og forbedrer dermed vedheft.
Teknologiene som brukes av ionevakuumbeleggingsmaskiner, fordampningsbeleggmaskiner og magnetronforstøvningsbeleggmaskiner er forskjellige. Disse beleggteknologiprinsippene har også sine egne fordeler. Ulike beleggingsmetoder kan velges i henhold til beleggarbeidsstykket og filmlaget for å møte markedets etterspørsel.
