Magnetron -sputringutstyr bombarderer hovedsakelig måloverflaten med ioner, sputtende atomer eller molekyler på måloverflaten på underlaget for å danne en tynn film. Hovedfunksjonene til magnetron sputteringutstyr er som følger:
1. Forberedelse av forskjellige tynnfilmmaterialer: Magnetron -sputringutstyr kan brukes til å fremstille forskjellige tynne filmmaterialer som metaller, legeringer, halvledere, etc., og er mye brukt innen elektronikk, optoelektronikk, skjerm og andre felt.
2. Forbedre materialegenskaper: Magnetron -sputringutstyr kan endre mikrostrukturen og sammensetningen av filmen ved å kontrollere sputring -forholdene, og dermed forbedre de mekaniske egenskapene og optiske egenskapene til materialet.
3. Overflatemodifisering: Magnetron -sputringutstyr kan forberede forskjellige tynne filmer på underlagsoverflaten for å oppnå overflatemodifisering, korrosjonsbeskyttelse, belegg og andre funksjoner.
Kort sagt, Magnetron sputteringutstyr er et viktig materialbehandlings- og overflatebehandlingsutstyr med et bredt spekter av bruksområder og viktig økonomisk og sosial betydning.
