Kontinuerlig Magnetron Sputtering PVD Vakuum Coating Line

Kontinuerlig Magnetron Sputtering PVD Vakuum Coating Line

Detaljer
Continuous Magnetron Sputtering PVD Vacuum Coating Line er et høyt spesialisert produksjonssystem, som hovedsakelig brukes til å avsette ett eller flere lag med tynne funksjonelle filmer på overflaten av underlag (som glass, plast, metall, keramikk og etc.).
Tilstand: Ny
Garanti: 1 år
Etter-salgstjeneste: Feltinstallasjon, igangkjøring og opplæring, ingeniører tilgjengelig for service på maskiner i utlandet
Sertifisering: CE, ISO9001
Underlag: plast, PC/PMMA/PET-plate, glass, keramikk, etc.
Vakuumkammermateriale: SUS-304 overlegen rustfritt stål
Vakuumkammerstørrelse: spesiallaget-
Avsetningsmateriale: Titan / Aluminium / Krom / Kobber / TiAl / TiN / SS, metallfilmer som Al, Cr, SUS, Ni, Sn, Ti og legeringer etc.
Beleggfilmfunksjon: Dekorativ, superhard, slitebestandig-, anti-korrosjon, reflekterende, skjermingseffekt, ledning, ikke-ledning osv.
Produktet klassifisering
Kontinuerlig belegglinje
 
Sende bookingforespørsel
Beskrivelse
Tekniske parametere

Kontinuerlig Magnetron Sputtering PVD Vacuum Coating Line sentrert om magnetronsputtering, prosessen opererer i et høyt-vakuummiljø der kombinerte elektriske og magnetiske felt begrenser elektroner for å bombardere et målmateriale. Denne handlingen sputterer atomer eller molekyler fra målet, og deponerer dem på overflaten av et bevegelig substrat.


Systemet er kompatibelt med DC-, MF- og RF-strømforsyninger, og kan avsette metallfilmer, legeringsfilmer, dielektriske oksidfilmer og flerlags komposittfilmer.


Et kontinuerlig kammersystem med segmentert isolasjon for å opprettholde vakuumgradienter, med uavhengige soner for mating, belegg og lossing, og muliggjør dermed uavbrutt, kontinuerlig produksjon.

 

 

Utstyrsfunksjoner

 

Kontinuerlig produksjon eliminerer behovet for å bryte vakuumet gjentatte ganger
Et segmentert vakuumlås-kammer muliggjør kontinuerlig transport av substrater inn og ut av utstyret, og eliminerer ventetidene for støvsuging og ventilering forbundet med batchbehandling og øker produksjonskapasiteten betydelig.

 

Belegningsprosess med lav-temperatur
Temperaturøkningen til underlaget er kontrollerbar, og forhindrer skade på varme-følsomme fleksible og plastiske underlag som PET, PI, PC og akryl. Den er også kompatibel med underlag av glass, keramikk og metallplater.

 

Filmlaget er tett og jevnt, med sterk vedheft
Optimalisering av magnetfelt med stort-område sikrer utmerket jevnhet av filmtykkelse over hele underlaget.

 

Fleksibel målkonfigurasjon og et bredt utvalg av beleggmaterialer

 

Modulær maskindesign, høy grad av tilpasning
Den kan tilpasses i henhold til kundens substratstørrelse, bredde, produksjonskapasitet og filmsystemkrav.

 

PLS automatiseringskontroll
Berøringsskjerm HMI; prosessparametere kan lagres og spores.

 

 

 

Søknader:

 

 

Hard plate: glass, keramikk, PC plate

 

Glass for konstruksjon og husholdningsapparater:

Lite-E energisparende-glass, paneler for husholdningsapparater, dekorative speil, bilglass, HUD optisk glass

 

Fotovoltaisk industri: solcelledeksel TCO ledende film

 

Forbrukerelektronikk: berøringsglass, PC/PMMA dekorative ledende ark

 

Keramisk underlag: DPC keramisk kobberbelegg, keramisk kretskort metallisert belegg

 

Dekorasjonsindustri: dekorativ film med stort område, anti-korrosjonsfilm

 

Vakuumbelegg av kobber, sølv og andre ledende materialer på overflaten av elektrisk komponentkeramikk og kretskortkeramikk.

 

Den er også egnet for vakuumavsetning av forskjellige metallfilmlag på overflaten av andre plater-som arbeidsstykker (glass, akrylplater, etc.);

Continuous Reflective Film Magnetron Sputtering Vacuum PVD Coating Line
Magnetron Sputtering Continuous Coating Line
Magnetron Sputtering Continuous Coating Line

 

Hovedtrekk:


Magnetfelt begrenser plasma

Dette er kjernefunksjonen til magnetronsputtering. Ved å påføre et sterkt magnetfelt av en spesifikk form (vanligvis en ring- eller veddeløpsbaneform) nær måloverflaten, er elektronene begrenset nær måloverflaten for å lage spiralbevegelser, noe som i stor grad øker sannsynligheten for kollisjon og ionisering av elektroner med arbeidsgass (vanligvis argon) atomer.


Høy ioniseringshastighet og høy avsetningshastighet

Magnetisk feltbegrensning øker plasmatettheten og ioniseringshastigheten betydelig, noe som gjør sputterprosessen mer effektiv.

Dette betyr at ved relativt lavt gasstrykk og lav forstøvningsspenning/effekt kan mye høyere sputter- og avsetningshastigheter oppnås enn konvensjonell DC-forstøvning.

 

Lav temperatur prosess

Siden mesteparten av energien brukes til å ionisere gassen og sputtermålatomene, overføres relativt lite varme til underlaget.

 

God filmkvalitet

God tetthet, sterk vedheft, høy renhet og god jevnhet.

 

Bredt utvalg av materialtilpasning

 

God prosesskontrollerbarhet


Produksjonslinjen for magnetronforstøvningsbelegg har blitt en av hovedteknologiene for fremstilling av funksjonelle tynne filmer (som optiske filmer, ledende filmer, slitasjebestandige hardfilmer, dekorative filmer, anti-korrosjonsfilmer, magnetiske filmer, halvlederfilmer osv.) i moderne industri på grunn av kjerneprosessen og fordelene med høy temperatur, høye dekomponeringshastigheter, høy kvalitet og filmkvalitet vedheft), bred materialtilpasningsevne, god ensartethet og kontrollerbarhet.

 

 

Populære tags: Kontinuerlig Magnetron Sputtering PVD Vakuum Coating Line, Kina Kontinuerlig Magnetron Sputtering PVD Vakuum Coating Line produsenter, leverandører, fabrikk

Sende bookingforespørsel
Kontakt ossHvis det har noe spørsmål

Du kan enten kontakte oss via telefon, e -post eller online skjema nedenfor. Spesialisten vår vil kontakte deg tilbake om kort tid.

Kontakt nå!